Increasing the ductility of single crystalline silicon treated by hydrogen plasma
Increasing the ductility of single crystalline silicon treated by hydrogen plasma
复制标题
氢等离子体处理提高单晶硅的延展性
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Kamiya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Izumi;M. Nakamura;S. Kamiya
