シリコン微細加工技術を用いた320umピッチの流路を有する大気圧プラズマジェットアレイの製作と評価
シリコン微細加工技術を用いた320umピッチの流路を有する大気圧プラズマジェットアレイの製作と評価
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利用硅微加工技术制备320um节距流道常压等离子体射流阵列并进行评估
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
武政智史; 山崎秀貴; 寺尾京平; 鈴木孝明; 下川房男; 高尾英邦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Nakagawa;Y. Maeda;K. Maeda;K. Watatani;H. Kobara;H. Mori;H. Takao;井原拓也; 寺尾京平; 下川房男; 高尾英邦;武政智史; 相田泰志; 高尾英邦;T. Ihara; H. Yamasaki; K. Terao; T. Suzuki; F. Shimokawa; H. Takao;武政智史; 山崎秀貴; 寺尾京平; 鈴木孝明; 下川房男; 高尾英邦
