Epitaxial Nitriding Processes of Titanium Thin Films due to N Implantation
Epitaxial Nitriding Processes of Titanium Thin Films due to N Implantation
复制标题
氮注入钛薄膜外延氮化工艺
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Yamamoto and M. Yoshikawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Kasukabe;S. Yamamoto and M. Yoshikawa
