K.Terashima: "HIGH RATE DEPOSITION OF THICK EPITAXIAL FILMS BY THERMAL PLASMA FLASH DEPOSITION" Pure and Applied Chemistry. 70/6. 1193-1197 (1998)
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K.Terashima：“通过热等离子体闪光沉积实现厚外延薄膜的高速率沉积”纯粹与应用化学。
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