スパッタリング法を用いたY:HfO2強誘電体厚膜の作製とその電気特性評価
スパッタリング法を用いたY:HfO2強誘電体厚膜の作製とその電気特性評価
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溅射法制备Y:HfO2铁电厚膜及其电性能评价
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
舟窪 浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
志村 礼司郎;三村 和仙;清水 荘雄;舟窪 浩
