T.Arai, T.Nakamura and H.Shirai: "Fast Deposition of Amorphous and Microcrystaline Silicon Films from SiH2CI2-SiH_4-H2 by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition" Japan Journal of Applied Physics. 36 7B. 4907-4910 (1997)
T.Arai, T.Nakamura and H.Shirai: "Fast Deposition of Amorphous and Microcrystaline Silicon Films from SiH2CI2-SiH_4-H2 by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition" Japan Journal of Applied Physics. 36 7B. 4907-4910 (1997)
复制标题
T.Arai、T.Nakamura 和 H.Shirai：“通过等离子体增强化学气相沉积从 SiH2CI2-SiH_4-H2 快速沉积非晶硅和微晶硅薄膜”日本应用物理杂志。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
