T. Shinada, A. Ishikawa, C. Hinoshita, M. Koh, and I. Ohdomari: "Reduction of fluctuation in Semiconductor conductivity by one-by-one ion implantation of dopant atoms"Jpn. J. Appl. Phys.. 39. L265-L268 (2000)
T. Shinada, A. Ishikawa, C. Hinoshita, M. Koh, and I. Ohdomari: "Reduction of fluctuation in Semiconductor conductivity by one-by-one ion implantation of dopant atoms"Jpn. J. Appl. Phys.. 39. L265-L268 (2000)
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T. Shinada、A. Ishikawa、C. Hinoshita、M. Koh 和 I. Ohdomari：“通过掺杂原子的一对一离子注入减少半导体电导率的波动”Jpn。
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