Preparation of Nb2AlC coating by DC magnetron sputtering and subsequent annealing
Preparation of Nb2AlC coating by DC magnetron sputtering and subsequent annealing
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直流磁控溅射制备Nb2AlC涂层及后续退火
DOI：
10.1016/j.ceramint.2017.02.033
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发表时间：
2017-06
影响因子：
5.2
通讯作者：
Meishuan Li
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yueming Li;Yuhai Qian;Guorui Zhao;Jingjun Xu;Meishuan Li
采用两步法在多晶 Al2O3 上沉积 Nb2AlC 涂层。首先，在室温下通过直流磁控溅射从 Nb2AlC 化合物靶上沉积非晶态 Nb-Al-C 涂层，然后通过随后在 800 °C 的氩气中退火获得晶态 Nb2AlC 涂层。溅射沉积中Nb2AlC晶体的形成温度远低于热压沉积中的形成温度。多晶涂层呈现出具有任意取向的纳米尺寸晶粒。采用 XRD、拉曼光谱、SEM 和 TEM 对涂层的成分和微观结构进行了表征。
An Nb2AlC coating was deposited on polycrystalline Al2O3by a two-step method. Firstly, an amorphous Nb-Al-C coating was deposited by DC magnetron sputtering at room temperature from an Nb2AlC compound target, and then a crystalline Nb2AlC coating was obtained by subsequent annealing at 800 °C in Ar. The formation temperature of crystalline Nb2AlC in sputtering deposition was much lower than in hot pressing. The polycrystalline coating exhibited nano-size grains with arbitrary orientation. XRD, Raman spectroscopy, SEM and TEM were used to characterize the components and microstructures of the coatings.
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T. H. Scabarozi-;T. H. Scabarozi-;J. Roche;Amir Rosenfeld;S. Lim;L. Salamanca-Riba;G. Yong;I. Takeuchi;M. Barsoum;J. Hettinger;S. Lofland
通讯作者：
T. H. Scabarozi-;T. H. Scabarozi-;J. Roche;Amir Rosenfeld;S. Lim;L. Salamanca-Riba;G. Yong;I. Takeuchi;M. Barsoum;J. Hettinger;S. Lofland
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I. Salama;T. El-Raghy;M. Barsoum
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Huimin Xiang;Xiaohui Wang;Jingyang Wang;Yanchun Zhou
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BENESOVSKY, F