パルスoff期のターゲット電位を変化させたパルスマグネトロンスパッタによる薄膜構造制御
パルスoff期のターゲット電位を変化させたパルスマグネトロンスパッタによる薄膜構造制御
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通过在脉冲关闭期间改变靶电位来控制脉冲磁控溅射的薄膜结构
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
馬場茂
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中野武雄;原良輔;日留川紀彦;馬場茂
