放射光XPSによるSi(100)2×1へのCH3Cl吸着反応の研究
放射光XPSによるSi(100)2×1へのCH3Cl吸着反応の研究
复制标题
同步辐射XPS研究CH3Cl在Si(100)2×1上的吸附反应
DOI：
--
复制
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
矢板毅
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
塚田千恵;吉田光; 岡田美智雄;吉越章隆;矢板毅
