Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Manabu Takeshita, Makoto Kita, Kazunori Koga, Yukio Watanabe: "Control of deposition profile of Cu for LSI interconnects by plasma chemical vapor deposition(Invited Lecture Paper)"Pure & Applied Chemistry. (in press).
Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Manabu Takeshita, Makoto Kita, Kazunori Koga, Yukio Watanabe: "Control of deposition profile of Cu for LSI interconnects by plasma chemical vapor deposition(Invited Lecture Paper)"Pure & Applied Chemistry. (in press).
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Kosuke Takenaka、Masaharu Shiratani、Manabu Takeshita、Makoto Kita、Kazunori Koga、Yukio Watanabe：“通过等离子体化学气相沉积控制 LSI 互连的 Cu 沉积剖面（特邀演讲论文）”Pure
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