Studies on the positive hydrogen ion production from a small multicusp source
Studies on the positive hydrogen ion production from a small multicusp source
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小型多尖峰源产生正氢离子的研究
DOI：
10.1063/1.1144972
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发表时间：
1994
影响因子：
1.6
通讯作者：
K. Leung
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Olivo;E. Mariani;K. Leung
一个射频驱动的离子源已经开发和测试在LBL的正氢离子的生产。在60 kV PSI离子源试验台上对这种新型源的直流电弧放电离子种类和电流密度进行了研究，并将结果与使用射频放电获得的结果进行了比较。该源使用两种放电模式，将安装在PSI Cockcroft-Walton预注入器中，以将870-keV直流质子束强度从目前的8-10 mA操作增加到约25 mA。
An rf driven ion source has been developed and tested at LBL for positive hydrogen ion production. Studies of this new source on ion species and current densities for a dc arc discharge are made in the 60‐kV PSI ion source test stand and the results compared with those obtained using the rf discharge. This source, using both discharge modes, will be installed in the PSI Cockcroft–Walton preinjector to increase the 870‐keV dc proton beam intensity from the present 8–10 mA operation to about 25 mA.