熱プラズマジエットによるミリ秒急速熱処理とその半導体プロセス応用(第44回応用物理学会スクール「安価、簡単、便利〜大気圧プラズマの基礎と応用〜」)
熱プラズマジエットによるミリ秒急速熱処理とその半導体プロセス応用(第44回応用物理学会スクール「安価、簡単、便利〜大気圧プラズマの基礎と応用〜」)
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使用热等离子体射流的毫秒快速热处理及其在半导体工艺中的应用（第44届日本应用物理学会“便宜、简单、方便 - 大气压等离子体的基础和应用”）
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
東 清一郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Sugakawa;S. Higashi;H. Kaku;T. Okada;S. Miyazaki;東 清一郎
