Relationship between Absorption Coefficient and Line Edge Roughness of Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography
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极紫外光刻用化学放大光刻胶吸收系数与线边缘粗糙度的关系
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Kozawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小野浩之;ドドビバ・ジョルジ;定木淳;藤田豊久;Y. Nakamura;T. Kozawa
