Initial growth of InAs on P-terminated Si(111)surfaces to promote uniform lateral growth of InGaAs micro-discs on patterned Si

Initial growth of InAs on P-terminated Si(111)surfaces to promote uniform lateral growth of InGaAs micro-discs on patterned Si
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InAs 在 P 端接 Si(111) 表面上的初始生长促进 InGaAs 微盘在图案化 Si 上的均匀横向生长

DOI:
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发表时间:
2010
期刊:
Journal of Crystal Growth 312
影响因子:
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通讯作者:
M.Sugiyama
M.Sugiyama
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Y.Kondo;M.Deura;Y.Terada;T.Hoshii;M.Takenaka;S.Takagi;Y.Nakano;M.Sugiyama

文献摘要

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