Growth of VO_2 Films with Metal-Insulator Transition on Silicon Substrates by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering
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硅衬底上电感耦合等离子体辅助溅射生长具有金属-绝缘体转变的VO_2薄膜
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kunio Okimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J.Takayama;K.Okimura;Kunio Okimura;Kunio Okimura;Kunio Okimura;Ken Okumura;Kunio Okimura
