Importance of Advanced Plasma for Frontier Nitride Semiconductor Technologies
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先进等离子体对于前沿氮化物半导体技术的重要性
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
E.Yoon
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Nanishi;T.Yamaguchi;K.Wang;T.Araki;E.Yoon
