プラズマドーピング法を用いたp型SiCの作製装置の立ち上げ
プラズマドーピング法を用いたp型SiCの作製装置の立ち上げ
复制标题
推出采用等离子体掺杂法的 p 型 SiC 制造设备
DOI：
--
复制
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
松本俊
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
深井健太;鍋谷暢一;村中司;松本俊
