近接場光学とMEMS技術

近接場光学とMEMS技術
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近场光学和MEMS技术

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
レーザー研究 33(11)
影响因子:
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通讯作者:
小野崇人
小野崇人
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Y.Kitade;Y.Takei;T.Misawa;N.Kubota;T.Oyabu;H.Nanto;寒川誠二;小野崇人

文献摘要

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