トリチル保護されたチオールおよびアルコールの光触媒系による脱保護反応の開発
トリチル保護されたチオールおよびアルコールの光触媒系による脱保護反応の開発
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三苯甲基保护的硫醇和醇的光催化脱保护反应的进展
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
村上 翔，Brudy Cosima，Bachmann Moritz，竹本 佳司，Pieber Bartholomäus
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Murakami Sho;Nanjo Takeshi;Takemoto Yoshiji;村上 翔，Brudy Cosima，Bachmann Moritz，竹本 佳司，Pieber Bartholomäus
