Electrical Damage Introduced into n -GaN Films by CF4 Plasma Treatments
Electrical Damage Introduced into n -GaN Films by CF4 Plasma Treatments
复制标题
CF4 等离子体处理对 n-GaN 薄膜造成的电损伤
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yoshitaka Nakano
中科院分区：
文献类型：
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作者：
廣瀬 将人;田橋 正浩;高橋 誠;吉野 賢二;後藤 英雄;Yoshitaka Nakano
