An original approach for the fabrication of Si/SiO2 multilayers using reactive magnetron sputtering
An original approach for the fabrication of Si/SiO2 multilayers using reactive magnetron sputtering
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使用反应磁控溅射制造 Si/SiO2 多层膜的原创方法
DOI：
10.1016/s0040-6090(02)00294-8
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
C. Dufour
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Ternon;F. Gourbilleau;X. Portier;P. Voivenel;C. Dufour
