玉田 耕治、大山 昌憲、: "RFスパッタリングによるGa2S3_<-x>薄膜の基礎物性" 東京高等研究報告書. 27. 43-44 (1995)
玉田 耕治、大山 昌憲、: "RFスパッタリングによるGa2S3_<-x>薄膜の基礎物性" 東京高等研究報告書. 27. 43-44 (1995)
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Koji Tamada、Masanori Oyama：“射频溅射生产的 Ga2S3_<-x> 薄膜的基本物理性质”东京高级研究报告 27. 43-44 (1995)。
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