Crack suppression of SiO2 thin film formed by 157nm F2 laser induced photochemical surface modification of hard silicone coating film on polycarbonate
Crack suppression of SiO2 thin film formed by 157nm F2 laser induced photochemical surface modification of hard silicone coating film on polycarbonate
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157nm F2激光诱导聚碳酸酯硬硅涂层膜光化学表面改性形成的SiO2薄膜裂纹抑制
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Nojiri and M. Okoshi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
野尻秀智; 大越昌幸;H. Nojiri and M. Okoshi
