Electrodeposition of noble metals into chemically modified microporous silicon substrates
Electrodeposition of noble metals into chemically modified microporous silicon substrates
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将贵金属电沉积到化学改性的微孔硅基底上
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yukio H. Ogata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ryo Koda;Kazuhiro Fukami;Tetsuo Sakka;Yukio H. Ogata
