Interfacial dipoles at high-k/SiO_2 interface observed by X-ray Photoelectron Spectroscopy
Interfacial dipoles at high-k/SiO_2 interface observed by X-ray Photoelectron Spectroscopy
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X射线光电子能谱观察高k/SiO_2界面的界面偶极子
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
鳥海明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
竺立強;喜多浩之;西村知紀;長汐晃輔;鳥海明
