10℃から40℃で合成した非晶質シリカから得られた酸素安定同位体分別係数
10℃から40℃で合成した非晶質シリカから得られた酸素安定同位体分別係数
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由10℃至40℃合成的无定形二氧化硅获得的氧稳定同位素分馏系数
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
池原実
中科院分区：
文献类型：
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作者：
河口温子;堀真子;成田一人;井尻暁;池原実
