Characterization of Etching Anisotropy in a Surfactant-Added TMAH Solution, and its Application to Scalloping Reduction
Characterization of Etching Anisotropy in a Surfactant-Added TMAH Solution, and its Application to Scalloping Reduction
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添加表面活性剂的 TMAH 溶液中蚀刻各向异性的表征及其在扇形减少中的应用
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Sato
中科院分区：
文献类型：
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作者：
B.Tang;H.Amakawa;M.Shikida;H.Hida;N.Inagaki;P.Pal;K.Sato
