K.Nose, K.Tachibana, T.Yoshida: "Rectification properties of layered boron nitride films on silicon"Applied Physics Letters. 83(5). 943-945 (2003)
K.Nose, K.Tachibana, T.Yoshida: "Rectification properties of layered boron nitride films on silicon"Applied Physics Letters. 83(5). 943-945 (2003)
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K.Nose、K.Tachibana、T.Yoshida：“硅上层状氮化硼薄膜的整流特性”应用物理快报。
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