Characteristics analysis of Photoemission-Assisted plasma for planarization process
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光电子辅助等离子体平坦化工艺特性分析
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Takakuwa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ajia Saijian;Yudai Ohtomo;S. Ogawa;Y. Takakuwa
