分子インプリント高分子光増感剤による基質選択型光酸素化反応
分子インプリント高分子光増感剤による基質選択型光酸素化反応
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使用分子印迹聚合物光敏剂的底物选择性光氧化反应
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takayuki Hirai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takeshi Suzuki;YasuhiroShiraishi;Takayuki Hirai
