Molecular Dynamics Simulation of Oxide-Nitride Layer Etching by Fluorocarbon Plasmas
Molecular Dynamics Simulation of Oxide-Nitride Layer Etching by Fluorocarbon Plasmas
复制标题
氟碳等离子体刻蚀氮氧化物层的分子动力学模拟
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Satoshi Hamaguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Charisse Marie D. Cagomoc;Michiro Isobe;Eric A. Hudson;and Satoshi Hamaguchi
