Diffusion process of fluorescence molecules in bottom antireflective coating for 193 nm photo-lithography studied by single molecule tracking
Diffusion process of fluorescence molecules in bottom antireflective coating for 193 nm photo-lithography studied by single molecule tracking
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单分子追踪研究193 nm光刻底部抗反射涂层中荧光分子的扩散过程
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiroshi Miyasaka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Satoshi Takei;Syoji Ito;Takatsugu Kusumi;Hiroshi Miyasaka
