極薄Si酸化膜付Si上に成長するGeナノドツトに含まれる歪み分布の定量的な評価
極薄Si酸化膜付Si上に成長するGeナノドツトに含まれる歪み分布の定量的な評価
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硅超薄氧化膜上生长的Ge纳米点应变分布的定量评估
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田中信夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
藤林裕明;趙星彪;田中信夫
