荧光EXAFS 研究镶嵌在SiO2中的Ge

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DOI:
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发表时间:
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期刊:
核技术29(9):646-649 (2006)
影响因子:
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通讯作者:
闫文盛, 孙治湖, A.V. Kolobov,
闫文盛, 孙治湖, A.V. Kolobov,
中科院分区:
其他
文献类型:
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作者:
闫文盛, 孙治湖, A.V. Kolobov,

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