Bi誘起層交換成長法によるSiGe/絶縁膜基板の低温成長
Bi誘起層交換成長法によるSiGe/絶縁膜基板の低温成長
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Bi诱导层交换生长法低温生长SiGe/绝缘膜衬底
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
永野貴弥，河原聡，劉森，佐道泰造
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shuaifeng Hu;大塚健斗;Richard Murdey;中村智也;Minh Anh Truong;山田琢允;半田岳人;松田和大;中野恭兵;佐藤睦;丸本一弘;伹馬敬介;金光義彦;若宮淳志;永野貴弥，河原聡，劉森，佐道泰造
