Iron Thin Films Deposited by Low Voltage Sputtering
Iron Thin Films Deposited by Low Voltage Sputtering
复制标题
低压溅射沉积铁薄膜
DOI:
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发表时间:
2003
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
Y.Hoshi
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Y.Kon;Y.Hoshi
DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
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作者:
Norman Chen Lung. Loh
通讯作者:
Norman Chen Lung. Loh
DOI:
10.1063/1.1579867
发表时间:
2003
期刊:
影响因子:
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作者:
C. Tsai;Jung;Chia
通讯作者:
Chia