Band-gap modifications of β-FeSi_2 epitaxial films grown by molecular beam epitaxy
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复制标题
分子束外延生长β-FeSi_2外延薄膜的带隙修饰
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Keiichi Noda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
清王義弘;藤沢浩訓;清水勝;米田圭佑;長副亮他;Keiichi Noda
