Optimization of Double-Sided Polishing Conditions to Achieve High Flatness: Consideration of Relative Motion Direction
Optimization of Double-Sided Polishing Conditions to Achieve High Flatness: Consideration of Relative Motion Direction
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优化双面抛光条件以实现高平整度：考虑相对运动方向
DOI：
10.20965/ijat.2009.p0581
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Enomoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Hirose;T. Enomoto
