Oxygen diffusion kinetics during SiO2/SiC plasma oxidation
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DOI：
10.1016/j.vacuum.2022.111689
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发表时间：
2022-11
期刊：
影响因子：
4
通讯作者：
Nannan You;Xinyu Liu;Qian Zhang;Yang Xu;Jiayi Wang;Shengkai Wang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Nannan You;Xinyu Liu;Qian Zhang;Yang Xu;Jiayi Wang;Shengkai Wang
