UV-Raman spectroscopy study on SiO2/Si interface
UV-Raman spectroscopy study on SiO2/Si interface
复制标题
SiO2/Si界面的紫外拉曼光谱研究
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Hattori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yukihide Watanabe;et. al.;Yukihide Watanabe;渡邊幸秀;武井宗久;渡邊幸秀;小瀬村大亮;渡邊幸秀;黛哲;M.Hattori
