K.Tonokura et al.: "Formation mechanism of hydrogenated Silicon Cluster during thermal decom position of disilane"J. Phys. Chem. B. 106. 555-563 (2002)
K.Tonokura et al.: "Formation mechanism of hydrogenated Silicon Cluster during thermal decom position of disilane"J. Phys. Chem. B. 106. 555-563 (2002)
复制标题
K.Tonokura等：“乙硅烷热分解过程中氢化硅团簇的形成机理”J。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
