Effect of etching solution concentration on preparation of Si holes by metal-assisted chemical etching
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复制标题
刻蚀液浓度对金属辅助化学刻蚀制备硅孔的影响
DOI：
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发表时间：
2022
影响因子：
1.5
通讯作者：
清水智弘
中科院分区：
文献类型：
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作者：
村田恭介;依岡拓也;白岩直哉;伊藤健;新宮原正三;清水智弘
