Y.Ando,I.Sakamoto et al.: "Resistivity and structural defect of reactively sputtered TiN and HfN films"Thin Solid Films. 343. 246-249 (1999)
Y.Ando,I.Sakamoto et al.: "Resistivity and structural defect of reactively sputtered TiN and HfN films"Thin Solid Films. 343. 246-249 (1999)
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Y.Ando,I.Sakamoto 等人：“反应溅射 TiN 和 HfN 薄膜的电阻率和结构缺陷”固体薄膜。
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