アゾベンゼン修飾ジ-及びトリアルコキシシランを用いた有機シロキサン系フォトメカニカル材料の作製
アゾベンゼン修飾ジ-及びトリアルコキシシランを用いた有機シロキサン系フォトメカニカル材料の作製
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使用偶氮苯改性二烷氧基硅烷和三烷氧基硅烷制备有机硅氧烷基光敏材料
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
下嶋敦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
針ケ谷壮啓;鍜治屋良太;和田宏明;黒田一幸;下嶋敦
