Low-Temperature-Processed Zinc Oxide Thin-Film Transistors Fabricated by Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition
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等离子体辅助原子层沉积法制备低温氧化锌薄膜晶体管
DOI：
10.1143/jjap.51.02bf04
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yumi Kawamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Nakagawa;K. Tamura;Y. Ashizawa;S. Ohnuki;Yumi Kawamura
