M.Yoshiiwa, H.Kageyama, F.Wakasa, M.Takai, K.Gamo, Y.Shirota: "A Novel Clas of Low Molecular-weight Resists for Nanometer Lithography" Appl.Phys.Lett.69(17). 2605-2607 (1996)
M.Yoshiiwa, H.Kageyama, F.Wakasa, M.Takai, K.Gamo, Y.Shirota: "A Novel Clas of Low Molecular-weight Resists for Nanometer Lithography" Appl.Phys.Lett.69(17). 2605-2607 (1996)
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M.Yoshiiwa、H.Kageyama、F.Wakasa、M.Takai、K.Gamo、Y.Shirota：“用于纳米光刻的新型低分子量抗蚀剂分类”Appl.Phys.Lett.69(17)。
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