Realization of ultimate surface by dressed-photon and phonon etching
Realization of ultimate surface by dressed-photon and phonon etching
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通过修饰光子和声子蚀刻实现最终表面
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takashi Yatsui
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Endo;S. Yamamoto;T. Emura;K. Hidaka;N. Morone;J. E. Heuser;H. Sugiyama;西原洋知;諸根信弘;Takashi Yatsui
