Disolution Kinetics and Deprotection Reaction in Chemically Amplified EUV Resists
Disolution Kinetics and Deprotection Reaction in Chemically Amplified EUV Resists
复制标题
化学放大 EUV 光刻胶中的溶解动力学和脱保护反应
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiroki Yamamoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
^1Shingo KAWARA;Hiroyuki KOIZUMI;Hiroyuki KOUSAKA;et.al.;M.Shahien;Hiroki Yamamoto
