CoFe 膜の異方性磁界におけるRu およびCu 下地層の影響,The Papers of Technical Meeting on Magnetics,IEE Japan
CoFe 膜の異方性磁界におけるRu およびCu 下地層の影響,The Papers of Technical Meeting on Magnetics,IEE Japan
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Ru 和 Cu 底层对 CoFe 薄膜各向异性磁场的影响，磁性技术会议论文，IEE 日本
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
青木振一、大越正敏、川崎仁晴、大島多美子、植松卓彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
宗像誠;青木振一、大越正敏、川崎仁晴、大島多美子、植松卓彦
